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WIN Semiconductors发布了集成了0.1um GaAs pHEMT、单片PIN和垂直肖特基二极管的新平台

通过安娜·凯西|2018年6月14日

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WIN半导体公司发布了一项新的pHEMT技术,扩大了其高度集成GaAs技术的投资组合。PIH0-03平台集成了单片PIN和垂直肖特基二极管,以及WIN的高性能0.1um假晶HEMT工艺,PP10。这种集成技术,PIH0-03,增加了截止频率超过600GHz的高度线性垂直肖特基二极管,以及多功能PIN二极管,同时保留了PP10技术的最先进的毫米波性能。单片PIN和肖特基二极管与高性能毫米波晶体管的可用性,使广泛的功能在片上集成,包括混频器,温度/功率检测,限制器,高频开关,并支持功率,低噪声和通过100 GHz的光学应用。

这种集成技术为用户提供了增加片上功能的多种途径,并减少了用于各种终端市场的复杂多片模块的总体模具数量。除了高频开关外,单片PIN二极管还可用于低寄生电容ESD保护电路,并可作为片上功率限制器保护相控阵雷达中敏感的LNAs。垂直肖特基二极管可实现多种检测和混合功能,并可在独特的限制器应用中与PIN二极管结合。

“今天复杂的系统和高度竞争的市场要求增加mmWave的性能和每个芯片更多的功能。PIH0-03平台是WIN半导体如何通过提供高性能GaAs技术和新水平的多功能集成来满足这些关键市场需求的最新例子。为了满足下一代移动用户设备、无线基础设施、光纤和军事应用的不断增长的需求,WIN半导体继续将先进、高度集成的GaAs解决方案商业化,并为我们的客户提供明确的技术优势。”WIN半导体公司高级副总裁

赢得半导体公司。
www.winfoundry.com


了下:电子•电
标记:winsemiconductor

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