pi’s family of miniature micro and nanopositioning stages is expanding with the new RS-40 rotary stage and M-111 linear stages as engineers gave specific consideration to material selection, use of lubricants and coatings, and outbaking temperatures for high and ultra-high vacuum conditions.
RS-40 V7阶段具有360度旋转范围和20-N负载能力，具有20°/sec的高角度速度，最小的增量运动和87 µRAD的可重复性。直径20毫米的孔可旋转过滤器和光学元件。紧凑的尺寸使RS-40旋转阶段适合小型真空室。新的RS-40阶段由特殊真空额定的步进电机提供动力，适用于最高10的真空水平-7HPA。
新的110，M-111和M-112真空线性阶段系列可提供5、15和25毫米的旅行范围，适用于最多10的真空-6HPA。线性阶段还提供10毫米的明显光圈。微型线性阶段由带有集成编码器的闭环直流齿轮电动机和反射补偿的铅螺钉提供动力，并提供了以0.05 µm的最小增量运动和位置重复性为0.25微米的亚微米分辨率。
PI提供了广泛的真空和UHV兼容的线性阶段以及旋转阶段以及旋转阶段，可用于纳米定位和微调应用，包括压电弯曲阶段，压电运动溶液，甚至多轴系统，例如6-DOF HEXAPOD系统，以覆盖最苛刻的真空吸尘器，申请。服务的行业包括半导体，航空航天，光学和光子学，精度自动化，生命科学和大型科学研究。
有关更多信息，请访问www.pi-usa.us/en。
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