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ETEL介绍了新的XYZ3TH运动系统与VULCANO XY

通过玛丽莎·马丁|2016年7月7日

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ETEL很高兴地宣布其新的XYZ3TH堆叠系统作为进入广泛的ETEL运动系统。VULCANO XY是一个三件套设计的堆叠系统,具有高动态、双向可重复性和卓越的位置稳定性。它是作为半导体前端解决方案诞生的,但也可以服务于许多其他应用。不愿透露姓名的

XY系统是一个基于机械轴承的平台,集成铁芯直线电机,主要致力于点对点应用。下轴由两个直线电机组成,以一种龙门模式控制,在三个解耦线性轴承上移动。上直线电机铺设在坚硬和轻的底板上,允许旅行大于650毫米。该舞台易于配置,可以配备模块(theta, ZTheta, zthettip Tilt)最适合每个单独的应用。由于平台的灵活性,它非常适合前端部分与晶圆过程控制应用,如覆盖计量,关键尺寸和薄膜计量,以及后端应用与先进的封装相关,仅举例说明。

机械轴承在XY平面以及垂直方向提供高刚度,允许高加速度(高达2.5 g),高速度(高达2米/秒),巨大的双向重复性(X和Y轴±250 nm)和纳米范围内的位置稳定性。

链接的图像显示XYZ3TH配置,在XY组件的上轴上安装一个ETEL Z3TH组合模块。Z3TH组合模块提供364°Theta旋转,双z轴,一个粗的用于晶片加载和卸载,一个细的用于焦点调整,以及一个倾斜和倾斜校正±0.1°。该Z3TH模块是一个很好的替代基于压电Z执行器,消除了迟滞和非线性的开环,同时提供更好的跟踪误差在运动,重复性,移动和稳定性能,但在更长的旅行。

这个模块可以被替换,以最适合一个应用程序的需要,无论该应用程序只需要Z运动,纯Theta运动,或ZT运动没有Tip和倾斜校正。X轴和Y轴的行程可以调整,以适应300毫米或450毫米的晶圆,并应对更长的行程的需求,以面板为基础的应用。该平台还可以与ETEL的静音主动隔离系统集成,以进一步提高系统性能。

ETEL XYZ3TH堆叠系统提供的优势包括但不限于以下方面:

  • 低移动和稳定时间(25 mm±100 nm小于130 ms) @工具点
  • 高动力学,25m /s2加速度,2m /s速度
  • 倾斜和倾斜修正超过±0.1°的水平和移动和定居改善
  • 真空馈通到卡盘水平
  • 双Z一体化:粗行程上下料,精行程调焦
  • 紧凑的足迹
  • ISO class 1洁净室兼容性
  • 位置稳定性:X轴和Y轴为±1nm, Z轴为±1nm, T轴为150 mm半径时为±1nm
  • 低的径向轴向和径向跳动±1µm
  • 双向重复性:X和Y轴为±250 nm, Z轴大于100µm为±15 nm, T轴为±0.36弧秒

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线性运动技巧


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