EOS将在芝加哥（9月12日至17日）的IMTS展会上介绍其EOS M 400-4用于直接金属激光烧结（DML）。Quad-Laser系统专为工业应用而设计，具有更广泛的建筑平台，以及一个新的处理系统。
“添加剂系统的建筑量是400 x 400 x 400 mm（15.75 x 15.75 x 15.75英寸）。它配备了四个400瓦的激光器，在250 x 250 mm（9.8 x 9.8英寸）中独立运行，每个平方体包括50 mm的重叠（约2英寸），光束和功率稳定性可确保高DMLS部件质量。该系统在EOS M 290技术上构建。
作为EOS M 400-4系统的一部分，专利的EOS清除流程气体管理技术确保了一致的加工条件。它以一种方式分配过程气体，以避免激光与熔化过程的侧面产品的干扰。此外，综合工业级，重新过滤器寿命的循环过滤系统可降低运行时间和费用。
EOS M 400-4上的可用性和工作流程符合要求的生产要求。直观的软件有助于工作流程灵活性和效率。系统通过触摸屏和基于任务的图形用户界面操作。Eostate Monitoring Suite确保符合工业生产要求：它可以监控粉末床，各种参数以及激光功率。数据准备和计算与建筑过程分开：桌面准备的文件通过网络传输。
最初，EOS Nickelalloy HX以及EOS MaragingSteel MS1将可用于EOS M 400-4，并且更多的材料和工艺即将随之而来。可以修改参数以满足使用EOS参数请指导员的单个应用程序要求。
EOS.
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